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產(chǎn)品中心

當前位置:首頁產(chǎn)品中心半導體失效分析系統(tǒng)-微光顯微鏡IPHEMOS-DD倒置光發(fā)射顯微鏡 C10506-05-16

IPHEMOS-DD倒置光發(fā)射顯微鏡 C10506-05-16
產(chǎn)品簡介:

iPHEMOS-DD倒置微光顯微鏡是一款半導體失效分析系統(tǒng),通過檢測半導體裝置缺陷引起的微弱的光發(fā)射和熱發(fā)射來準確定位半導體器件的失效位置

產(chǎn)品型號:

更新時間:2025-05-09

廠商性質:經(jīng)銷商

訪問量:1009

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產(chǎn)品介紹

iPHEMOS-DD倒置微光顯微鏡是一款半導體失效分析系統(tǒng),通過檢測半導體裝置缺陷引起的微弱的光發(fā)射和熱發(fā)射來準確定位半導體器件的失效位置。利用其的倒置型設計,能夠便捷地進行樣品backside觀察與分析,將樣品直接連接到測試機上,再把測試機架裝到設備上方能夠有效減少線纜長度,這使得高頻驅動樣品的分析成為可能,這種直接架裝方式可用于點針偵測12英寸wafer,也可用來偵測封裝好的樣品。  

詳細參數(shù):




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產(chǎn)品結構:

● 同時加裝兩臺高靈敏度相機,能夠同時完成光發(fā)射和熱發(fā)射偵測

● 設備可以加載多種激光

● 鏡頭切換轉塔可以加裝10種不同鏡頭

產(chǎn)品配置(可選配):

● 激光掃描系統(tǒng) 

● 高靈敏度近紅外相機進行光發(fā)射分析 

(根據(jù)客戶樣品特點對不同波長范圍的光發(fā)射探測可以選配不同型號相機,InGaAs, C-CCD, Si-CCD, Emmi-X)

● 高靈敏度中紅外Thermal相機進行熱分析 

● 激光誘導阻值變化分析(OBIRCH)


● D-lock in

● Thermal Lock in

● EOP/EOFM

● Tilt Stage

● Nano Lens 進行高分辨率、高靈敏度分析 

● Navigation功能

● 連接測試機進行動態(tài)分析

● Laser Marker

連接示例:

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